Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
артикул: 39830705
399.00 руб.
Доставка из: Россия
   Описание
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии – реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
   Характеристики
age: 0
author: Л. А. Сейдман
genres_list: 5311,5575,5671,5682,5763,55135,102146,113345,200550
ISBN: 978-5-94836-222-9
lang: ru
litres_isbn: 978-5-04-154197-2
publisher: Техносфера
series: Мир материалов и технологий (Техносфера)
Type: book
year: 2009
Форматы: PDF
   График изменения цены & курс обмена валют

Пользователи также просматривали